PLANTA DIDÁTICA SMAR PD3: AJUSTE DOS PARÂMETROS DO CONTROLADOR PI DO TANQUE DE AQUECIMENTO – Parte B

Autores

  • Nathalia Bastos Domingos Universidade Federal de Viçosa
  • Camila Raissa Rodrigues de Morais Universidade Federal de Viçosa
  • José Vitor Nicacio Universidade Federal de Viçosa
  • André Gomes Tôrres Universidade Federal de Viçosa

DOI:

https://doi.org/10.18540/jcecvl3iss3pp476-498

Palavras-chave:

Processos Químicos, Controlador PI, Estabilidade.

Resumo

O controle PID (proporcional, integral e derivativo) é importante para assegurar a padronização e segurança de diversos processos químicos de uma indústria, assim como a qualidade de seus produtos. Este trabalho foi realizado no tanque de aquecimento da planta didática Smar PD3 com a sintonia do controlador PI (proporcional e integral) e a análise de estabilidade do sistema de controle. De posse das funções de transferência do tanque de aquecimento, para as vazões de 200, 400, 600 e 1000 L.h-1, foi realizada a sintonia do controlador PI para a vazão de 600 L.h-1 e posterior validação do controle experimentalmente na planta, que mostrou resultados satisfatórios. Para as outras vazões foram utilizados os mesmos parâmetros do controlador encontrados para a vazão de 600 L.h-1, sendo que foram calculadas as raízes, por meio de um programa no Matlab®, o que comprovou a validade do controle para todas as vazões estudadas.

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Biografia do Autor

Nathalia Bastos Domingos, Universidade Federal de Viçosa

Departamento de Química

Engenharia Química

Camila Raissa Rodrigues de Morais, Universidade Federal de Viçosa

Departamento de Química

Engenharia Química

José Vitor Nicacio, Universidade Federal de Viçosa

Departamento de Engenharia Agrícola e Ambiental

André Gomes Tôrres, Universidade Federal de Viçosa

Departamento de Engenharia Elétrica

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Publicado

2017-03-07

Como Citar

Domingos, N. B., Morais, C. R. R. de, Nicacio, J. V., & Tôrres, A. G. (2017). PLANTA DIDÁTICA SMAR PD3: AJUSTE DOS PARÂMETROS DO CONTROLADOR PI DO TANQUE DE AQUECIMENTO – Parte B. The Journal of Engineering and Exact Sciences, 3(3), 476–498. https://doi.org/10.18540/jcecvl3iss3pp476-498

Edição

Seção

Simulation, Optimization and Process Control